PECVD용 RF 전원 공급 장치

PECVD 시스템은 튜브 퍼니스, 석영 진공 챔버, 진공 시스템, 가스 공급 시스템, 그리고 무선 주파수 전원 공급 시스템으로 구성됩니다. 주로 금속 박막, 세라믹 박막, 복합 박막, 그래핀 등의 성장에 사용됩니다. 기능 추가가 용이하며, 플라즈마 세정 및 에칭과 같은 기능을 확장할 수 있습니다. PECVD 시스템은 높은 박막 증착 속도, 우수한 균일성, 높은 일관성 및 안정성이라는 장점을 가지고 있습니다.

 RF 전원 공급 장치의 주요 기술 매개변수:

1 표준 수출 포장: 내부 충돌 방지 보호, 외부 수출용 나무 상자 포장.

2. 고객 요구 사항에 따라 익스프레스, 항공, 해상 운송을 통해 가장 적합한 방법을 찾아 배송합니다.

3. 배송과정에서 발생하는 손상에 대해 책임을 지고, 손상된 부분을 무료로 교환해 드립니다.